株式会社ニューフレアテクノロジー

ニューフレアテクノロジーが開発している半導体製造装置は、3つの分野にひろがっています。微細な回路パターンをフォトマスクに高精度で描く「電子ビームマスク描画装置」、フォトマスクの欠陥を検査する「マスク検査装置」、シリコンウエハに単結晶の薄膜を成長させる「エピタキシャル成長装置」を事業の柱としています。

半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉は微細化です。半導体は原版となる“フォトマスク”をもとに量産されます。ますます微細化が進む回路図をフォトマスクに短時間で正確に再現するニューフレアテクノロジーの技術は、半導体の安定的な生産を通じて、未来の社会を力強く支えているのです。

半導体製造装置市場は、最先端技術を必要とするため開発難易度が高く、他社の参入が非常に困難な領域です。その中でニューフレアテクノロジーは究極の微細加工技術の追求で世界トップレベルの描画精度を誇り、世界における最先端のシングルビームマスク描画装置市場において、ほぼ100％のシェアを獲得しています。

世界の半導体市場は、いまや全体で年間60兆円を超すと言われていますが、私たちの生活に欠かせない半導体の多くが、ニューフレアテクノロジーの電子ビームマスク描画装置を使って量産されています。半導体市場を支えているのが、ニューフレアテクノロジーの技術力なのです。

2002年に東芝機械株式会社の半導体装置事業部が分社・独立して創業いたしました。以来、半導体デバイスの微細化・高機能化に必要な電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・製造・販売を手掛けております。

• コーポレートサイト https://www.nuflare.co.jp
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